Les bâtis de dépôt par pulvérisation de Méca 2000 peuvent être utilisés pour le dépôt de quasiment tous les matériaux conducteurs, semi-conducteurs ou isolants selon que la cathode magnétron est alimentée par un courant continu
(DC) ou RF.
Cette technique permet d’obtenir des couches d’oxydes, de nitrures ou de carbures à partir de cibles métalliques, en monocouches ou en multicouches.
Il est également possible de travailler en pulvérisation réactive afin d’obtenir
Il est également possible de travailler en pulvérisation réactive afin d’obtenir
des couches d’alliages.
En déterminant la température du substrat et la puissance de polarisation avec discernement, on obtiendra des couches denses de bonne qualité de façon contrôlée, y compris sur des substrats qui ne tolèrent pas de températures
élevées (polymères par exemple).
Les systèmes Méca 2000 sont équipés de manipulateurs motorisés chauffants. Le contrôle d’épaisseur se fait par mesureurs à quartz et
systèmes automatisés de contrôle d’épaisseurs.
Les bâtis de pulvérisation MECA 2000 sont modifiables et adaptables selon vos besoins spécifiques.
SPM 300X
Dépôt de métaux et d’oxydes par sputtering
Ce bâti de sputtering de conception Ultra-vide a été spécialement étudié pour
le dépôt de métaux et d’oxydes.
La chambre de dépôt, de diamètre 600 mm x 500 mm permet de recevoir
3 à 6 magnétrons avec leur cache et 1 canon à ions pour la préparation de 1
3 à 6 magnétrons avec leur cache et 1 canon à ions pour la préparation de 1
substrats de 2’’.
3 piquages sont prévus pour l’alimentation en gaz (Ar, O2, N). L’ouverture de l’enceinte se fait par la bride supérieure grâce à un vérin commandé électriquement.
Les process de mise sous vide et d’introduction de gaz sont entièrement automatisés.
Un poste spécifique permet de stocker jusqu’à 6 échantillons en position d’attente (dans le sas d’introduction).
VINCI TECHNOLOGIES SA - 27 B Rue du Port - 92022 NANTERRE (FRANCE) Tel : +33(0) 1.41.37.92.20 / Fax : +33(0) 1.41.37.04.76
